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【NAURA EPI GO】北方华创实现外延工艺设备全覆盖-环球热消息

来源:同花顺财经    编审:    发布时间:2023-06-27 11:42:34

制造先进芯片需要近乎完美的晶体材料,外延设备是生长晶体材料的关键设备,广泛应用于集成电路、功率器件、硅材料、第三代半导体等领域。

作为中国外延工艺装备技术的开拓者,北方华创(002371)早在2010年就启动外延装备的研发工作,经过十余年的技术沉淀与创新突破,已发布20余款量产型外延设备,累计出货近1000腔。

Excellent


(资料图片)

品全质优

从2012年首台硅外延设备成功进入客户端至今,北方华创已然形成具有核心技术优势的品类齐全、应用广泛的外延设备系列化产品。

具备多种材料外延生长技术能力:包括单晶硅、多晶硅、碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、磷化铟(InP)等,覆盖集成电路、功率器件、射频、半导体照明等领域应用需求。

— NAURA外延工艺一览表 —

实现4英寸到12英寸全覆盖:包括8英寸及以下的单片及多片大产能硅外延设备、12英寸硅外延设备、4/6/8英寸碳化硅外延设备、8英寸及以下单片及多片大产能硅基氮化镓外延设备。

— 4-12英寸单片/多片外延设备图示 —

Popular

誉满行业

励精图治,经过十余年在技术和市场方面的积累,北方华创的外延产品业绩斐然,不断赢得客户和产业界的好评。

公司在外延领域最早问世的8英寸硅外延设备,打破了行业的竞争格局,成为了行业内主流Baseline(基准)产品,将产业发展推向全新高度,问世至今几乎斩获国内市场全部订单。

12英寸常压硅外延设备突破了一系列关键技术,获得了市场的广泛认可:在功率器件领域,截至当前已在客户端连续量产超过20万片;在硅材料领域,已在多家客户端实现稳定量产,各项关键指标达到国际主流水平。此外,凭借优异的工艺性能和市场化业绩,产品于2022年荣获中国集成电路创新联盟第五届“IC创新奖”。

面向投资火爆的碳化硅领域,北方华创凭借深厚的技术积累,快速开发了碳化硅外延产品,目前产品已实现近200台的销售,占据市场半壁江山。面向8英寸碳化硅市场,北方华创前瞻性开发的6/8英寸兼容多片碳化硅外延设备也即将投入市场,将大幅降低客户运营成本,引爆新一轮市场热潮。

Innovative

常研常新

自2010年以来,北方华创对标行业前沿科技,精研市场及客户需求,通过持续创新,突破并优化了气流场、加热场、气路系统、温度控制、压力控制、运动系统等一系列关键技术,并可针对客户需求进行定制化研发。

多区控温技术,可提升外延层的结晶质量,优化外延层的掺杂分布,满足多种不同的技术要求。

高温洁净腔室技术,可降低晶体杂质与缺陷,提升器件层的晶体质量,提升器件性能。

多区水平气流场设计,实现单向层流,无反流湍流,可拓宽外延工艺窗口,提高外延界面质量,实现外延膜层的可控和器件的高性能。

常压与减压下的加热场与气流场的仿真技术,提升了工艺腔室的设计效率,为解决具体问题提供了理论支持。

北方华创将始终坚持对行业前沿科技的探索与研究,致力于打造具有前瞻性的专业技术与解决方案,以精良的外延设备与创新的专业服务为客户创造价值,推动产业进步,创造无限可能!

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